单纯的研发环境，全力的配合，在被所有人认为偏僻贫瘠的南海之滨，奇迹在这里酝酿，只待爆发惊艳实践。
一件件精密的零件，从丰老几位国宝级工匠手中诞生，再精密细小，他们都以近乎零误差完成。最关键的光学镜片，都没有困住他们的脚步。
真真做到了丰老对姜竞株的承诺，只要有图纸，再精密的加工，在他们手中，都是举重若轻，完满完成任务！
制取新的光刻胶，实验旋涂工艺，组装一个个精密部件···
当那台精密至极，彰显着科技凝结的深紫外线光刻机呈现在所有人面前的时候，参与研发的众人，无不为它的神采倾倒！
若不是事实摆在他们眼前，每一步组装过程，他们甚至全程参与，每一个精密零部件，他们都有亲自看着大师傅加工，真得有点儿不敢置信，这样先进的尖端设备，就这样被他们制备出来了！
看那工线笔直的外表，再想想那环环相扣，每一步，都代表着理论到工艺的科研结晶，那复杂的运转系统，更是让他们至今还没完全参透其中的细节之处。
哪怕是竞株同志已经毫无保留的阐述，他们自认为，也不算碌碌无为，但是，这里面涉及的理论和工艺，都可以堪称划开一个时代的领先，他们还需要不少时间，才能慢慢吃透全部，目前，只能说是囫囵吞枣的了解整体大构造理论，记得住工艺！
他们敢说，这是世界上最精密的光刻机，没有之一，哪怕是以先进出名的海对面，也没有这样优秀的设备，他们有这个自信！
竞株同志的推导研发能力，让他们的光刻进程，整整甩开对面了一个时代！
接触式曝光技术，跨过国际先进的投影式，以精密的南海激光系统和特殊反射镜，共同作用以生成和传递极紫外线光通过反射镜聚焦，实现了更精准的扫描式曝光技术。
非接触曝光，以掩膜版比光刻图案10:1的缩小倍率，光束通过刻有电路图案的掩模版，再经过一系列光学镜片缩小，最终将电路图案精准地刻蚀到硅片上···
光刻制程，直接从英寸，跳过微米，拉进到了纳米级的制程，这是千倍以上的提升！
他们可以预测，芯片成品率和良品率，将会呈几何倍提升！
别具一格的双工作台技术，通过两个独立设置的工作台，实现了曝光和上下料操作的并行进行。
当一个工作台在进行曝光操作时，另一个工作台就可以同时进行上下料操作，从而大大缩短了光刻机的停机时间，提高了生产效率。他们的双工作台系统，完全可以满足纳米级精度尺度的产品定制需求！
竞株同志设计的集成电路图如今已经可以肯定，是必然能够达成的，如今，他们已经在竞株同志的带领下，拥有了这项奇迹诞生的条件。
